第924章 光刻机大突破

“今天，我们正式向大家宣布，困扰了业界十多年时间的光刻机之壁，正式被我们AMSL公司破除了。从现在开始，70nm的制程就不再将是光刻机的极限，我们即将进入个位数的光刻机新时代！”此时此刻，面对着台下数以百计的记者, AMSL公司的负责人，用无比激动的声音说道。

2005年7月1号，这一天对于AMSL公司来说，绝对是最值得历史铭记的一天，因为在这一天，AMSL正式召开了新闻发布会，向全球发布了自家公司生产的新品，也是全新的XT系列的第一台产品XT:1700i。

在舞台上上面, 这位负责人激情澎湃的向查一下所有观众说明这台设备的数据，而记者们也丝毫不吝啬自己的胶卷，纷纷记录下这令人激动的历史一刻。

不过台下比记者更多的其实是各家科技企业的代表们，他们的表情或激动或深沉或有些玩味，不过他们都明白，恐怕整个光刻机市场要就此改写了。

之前说过，从90年代中期开始，光刻机的发展就基本上陷入了停滞状态。因为光源技术的限制，导致人类始终无法生产70纳米制成以下的光刻机，也就无法制作相应的芯片。

芯片之所以拥有恐怖的运算能力，其实就是先在单晶硅上面裹一圈绝缘层，然后再用极细的光线烧掉覆盖下的绝缘层。

就好像把光线变成了笔，直接在单晶硅上面画下了一个又一个的半导体，最终形成了一枚拥有恐怖运算能力的计算机芯片。

在最初的时候，人类画的线是用手画的，细度是毫米级别的, 所以一个单晶硅芯片上面只能画几个半导体。

后来变成了经过了精度加工的金属模具来压，但这样线的细度也不过是0.1毫米级别的，顶多只能够画几百上千个半导体而已。

直到有人发现了，可以利用光线在单晶硅上面刻画，于是第1台能够光刻机诞生了，但只能够刻画0.01毫米，也就是10微米左右的线条，在一片单晶硅上面也就是上万个半导体而已。

不过在人类不断的突破下，不断的更换光源和镜头，将光线也变得越来越细，最后也就成了现在的70nm级别制程的光刻机了。能够在一片单晶硅上面刻画上千万的半导体。

但这也顶天了，到90年代中期，人类就发现不管是镜头还是光源，人类都已经突破到极致了。除非能够弄到比激光和紫外线还要细的光源，或者干脆换掉光，用另外一种方式来刻画，否则这就是一个无法突破的死穴。

但10多年的时间，没有任何一家企业能够做到这一点，而光刻机的发展限制，也就导致了芯片制作精度被限制住了, 所以这10多年的时间里面, 计算机芯片本身的硬件技术是没有什么发展的。

但相应的软件技术，也就是芯片架构发展很快, 好歹让计算机芯片没有出现那种无法迭代的状况，可这终究无法改变硬件上的限制，从03年左右开始，计算机芯片的发展基本上就陷入了极为缓慢的状态。

就拿英特尔来说，虽然他们每年都会发布最新款的高端计算机芯片，但每年的新款比去年提升的性能差不多只在10%左右，和之前每年100%的性能提升形成了天壤之别。

英特尔的这种行为被用户称作是挤牙膏，然后英特尔就多了一个牙膏大厂的头衔。

房间一直有种说法，那就是英特尔的手中其实握有200%左右的算力提升的空间，只是他们害怕计算机芯片技术永远无法突破，未来自己可能无法推出算力迭代的新品。

于是干脆就挤牙膏，这样200%的算力好歹能够几二十年的时间，20年之后总能够突破计算机芯片的技术瓶颈了吧！

事实证明英特尔并不需要等待20年时间，也就是五六年左右，AMSL这家光刻机行业的新兵，给了全球一个大惊喜，率先推出了70