第690章

“我知道光刻机的涂胶原理其实跟相机胶片暴光差不多，最近我也一直在恶补这方面的知识。

我知道像光刻机的生产效率、良率以及最小分辨率均在不断发展。

而光刻机的最小分辨率由一个公式R=kλ/NA控制。

其中R代表可分辨的最小尺寸也就是我们追求的精度，那么肯定就是R越小越好，k是工艺常数代表我们的工艺技术,λ.....λ...。

λ是什么来着？”

说到这里，李秀成像是卡了壳，挠着腮帮子说道。

周宏一脸好为人师的表情笑道：“λ是光刻机所用光源的波长，我们现在研究的就是G线光刻机，波长346NM。

NA代表物镜数值孔径这个东西也就是关键的暴光系统。

这也是最难的东西，我们现在造的都是落后别人十年的参数产品。

反正，光刻机制程工艺水平的发展是一直遵循你说这个公式的。

现在米国的最新型光刻机已经可以生产800NM制程的芯片，我们却还在1200nm徘徊，还差得远啰！”

说到最后，周宏反而一脸失落，也没了开始的兴致。

“哦，真复杂！”李秀成做出一脸我很懵的表情，然后话锋一转道：“但我大致抓到了两个重点，光源、物镜折射率！

想要提升芯片的生产效率和良率，是必须要同时发展光刻机的内部构造和工作模式。

那么我们可以从整体因素考虑，为什么不换一种光源，然后再换一种折射介质？”

“嗯？”周宏回过神来，有些奇怪的说道：“现在光线就G线和I线两种，波长在三百多到四百左右，确实比较大，而且国际上的公同认知是在193nm缩短到157nm制程时会出现瓶颈。

但折射介质是什么说法？”

见周宏来了兴趣，李秀成嘴角微勾然后迅速恢复原状。

这也就是现在的干式微影光刻机和浸没式光刻机的最大区别了！

他故意做出一脸不确定的说道：“光线我觉得可以多做试验，把什么XYZ射线啊，紫外线，极光都试试，总能找到最合适的。

至于折射率嘛，现在的光刻机光波是在空气中传播，然后照射暴光。

但我们读书时不是有个知识点，是光进入不同的介质波长会有所改变嘛？

那么我们能不能把物镜折射后的光源再次进行一次介质折射。

比如水，比如其他的液体！”

一口气说完最核心的东西，李秀成捧起茶杯看向周宏。

此刻，周宏呆坐当场。

但一双微眯着的眼睛和紧皱的眉头却显示出他的脑子里正在进行剧烈的思索。

李秀成没有催促，甚至没有说一句话，就捧着茶杯静静的等待着。

直到胡英梅和老太太走了出来，两人见客厅如此安静，再看到周宏像是泥塑木雕一般的状态，不由大为好奇。

“怎么了老头子？”老太太不轻不重的叫了一声。

嗯！

周宏一个激灵回了神，也不管老太太好奇的表情，前顷着身子两眼放光的看着李秀成，有些激动的说道：“李总，你这个方法的原理是完全可以说得通的！

但其中的难点也非常多。

我....我觉得我们可以试一试。

如果能够成功，这将是迥异于现在光刻机原理的新思路，我们可能获得巨大的进步与成功。

甚至，甚至理论中的157NM瓶井难题也将迎刃而解。”

越说，周宏越激动，甚至站了起来，双手舞动，像是恨不得现在就回实验室大干一场。

呵呵，成了！

看他这个状态，李秀成满意极了，自己不愧是当红的广告主角，演技简直爆棚！

微笑道：“既然周教授也觉得可行，那当然是要好好研究一下。