第九百七十章 最长两三年的时间！

MOSFET金属-氧化物半导体场效应晶体管’和‘JFET结型场效应管’好像也没用光刻机吧？”

对于芯片制备相关的技术，他的确不是很了解，毕竟他并不是这一领域的研究人员。

不过星海研究院这边在研究碳基芯片，他还是看过一些芯片领域的论文的。

比如碳基芯片的雕刻技术，电路图的设计等等。

芯片芯片被誉为现代工业的掌上明珠，其制造过程涉及多个工艺步骤。

包括氧化光刻、离子注入、化学机械研磨、刻蚀、淀积、金属化、清洗等。

而在这些工艺步骤中，光刻技术尤为重要，是芯片制备的核心工艺之一，占芯片制造成本的35%以上

通常来说，芯片只能通过光刻机生产的主要原因是光刻技术具有高分辨率、高效率和多层次制造的能力。

越是高端的芯片，对光刻机的要求也就越高。

目前全世界能够生产低纳米级别光刻机的厂商，只有风车国的阿斯麦ASML公司。

这是光刻机领域的霸主，拥有极紫外（EUV）光刻机技术，能够生产最先进制程芯片的关键设备，被台积电、三星等芯片制造巨头依赖，用于5纳米及以下制程的芯片生产。