第四十六章 春节晚会

上，光刻机产业在产业在193nm波长上卡了将近20年！

如何将工艺跨入到40nm工艺，成为了阻挡在所有半导体厂商门口的拦路虎。

直到2002年，浸入式光刻技术的出现，将原先镜头与光刻胶之间的介质从空气换成了液体，从而利用光通过液体介质后光源波长缩短达成了提高分辨率的要求。

至于真正量产，那就还要靠后，一直到2007年蔡司公司推出的Starlith 1900i，成为了第一款达到 38纳米极限分辨率的浸没式光学器件，ASML公司继而才生产出跨越式的光刻机来。

而且这项技术最大的好处就是，其利用的还是原来的193nm干式光刻技术平台，只不过是单纯的介质改变，其他的技术应用并没有太多改动，所以比起一项崭新的技术，更能让客户接受。

因为李皓的提前指点，徐教授带领的技术团队，早在去年就已经开始进行这方面的研究。

李皓就是要利用这停滞的时间，来给国产的光刻机争取时间。

当然，李皓也清楚的明白，徐教授口中的生产，只是实验室里面的成绩。