第461章 超精密抛光

因为它不仅要满足自动化操作的纳米级精密度，更要具备精确的热膨胀系数。

热膨胀系数才是影响抛光机精密的主要原因。

因为当抛光机处在高速运转状态时，高速运转的摩擦会产生大量的热，一旦热作用于磨盘上，制造磨盘的材料会膨胀。

如果热膨胀作用导致磨盘的热变形，基片的平面度和平行度就无法保证。

而这种不能被允许发生的热变形误差不是几毫米或几微米，而是几纳米。

在他之前，各国无法制造出低纳米级抛光机的主要原因也就在此。

用什么材料和工艺才能合成这种热膨胀率低、耐磨度高、研磨面超精密的磨盘，才是关键。

尽管在此之前，顶级的超精密抛光技术还只能做到三十纳米。

但这种技术，在他制造纳米级光刻机之前，一直都是被小岛国、米国、日耳曼国这三个国家把控的。

他们据此掌控着超精密抛光工艺的核心技术，也牢牢把握了全球市场的主动权。

而事实上，把握住这项技术，也就在很大程度上掌控了电子制造业的发展。

比如小岛国产的抛光机的研磨盘，均为定制，从不进行批量生产，直接限制了他国彷制。

而米国的抛光设备销往华国，价格基本都在1000万元米金以上，而且出售的还都是自己早已经不用，精度在五十纳米以上的产品。

华国的芯片无法自制，没有掌握超精密抛光技也是原因之一。

不过这个问题随着他的直播，早已经被解决了。

.........（未完待续）